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四氯化硅雜質(zhì)分析分析系統(tǒng)

更新時(shí)間:2022-06-09      點(diǎn)擊次數(shù):3282

四氯化硅為有機(jī)化合物,主要用于化學(xué)工業(yè)及**生產(chǎn)。高純SiCl4是生產(chǎn)石英通信光纖的主要原料,也是國內(nèi)外多年來生產(chǎn)電子級多晶硅的基本原料,但對四氯化硅的純度要求較高。


  生產(chǎn)工藝決定了產(chǎn)品中的雜質(zhì)成分復(fù)雜,因此需要一套行之有效的分析方法分析四氯化硅產(chǎn)品的純度。對四氯化硅中的金屬雜質(zhì)、硅含量及其中有機(jī)雜質(zhì)成分進(jìn)行分析,采用傅立葉紅外光譜儀定性分析了四氯化硅中有機(jī)雜質(zhì)官能團(tuán),設(shè)計(jì)的一套密封取樣裝置有效避免了四氯化硅的水解等,提供了一種簡單有效的四氯化硅分析方法。


系統(tǒng)介紹

  主機(jī)采用德國布魯克款傅里葉紅外光譜儀:德國布魯克光譜儀器公司的TENSOR II型紅外光譜儀被國內(nèi)外的生產(chǎn)四氯化硅行業(yè)當(dāng)作是一款標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)備。它是分區(qū)密封的光學(xué)臺,對四氯化鈦水解氣體的危害有非常好的防護(hù)作用。在儀器構(gòu)造上由于采用無動態(tài)偏差的干涉儀、數(shù)字化檢測器、網(wǎng)絡(luò)化接口和自動校驗(yàn)等技術(shù),使得儀器工作更穩(wěn)定、定量精度更高。TENSOR II 是同類臺式研究級紅外光譜儀中采用先進(jìn)的二極管激光器的譜儀。此外,TENSOR II 的紅外光源增設(shè)了一個(gè)全新的電子穩(wěn)壓處理功能。這些創(chuàng)新極大延長了紅外光譜儀上兩個(gè)主要易損部件的使用壽命,同時(shí)降低了您的維護(hù)成本和耗時(shí)。

 

儀器特點(diǎn):

儀器具有靈敏度高,所有反射鏡均為鍍金鏡子,耐環(huán)境性能優(yōu); 儀器穩(wěn)定,抗震性能優(yōu),采用90°角鏡,入射光與反射光永遠(yuǎn)平行; 智能化程度高,能對儀器的各部分進(jìn)行檢測,同時(shí)給出測試報(bào)告;儀器內(nèi)部有校驗(yàn)系統(tǒng),對波數(shù)的精度、準(zhǔn)確度,透光率的精度、準(zhǔn)確度以及信噪比進(jìn)行測量。

系統(tǒng)除紅外光譜儀器外,為保證樣品*隔離空氣的情況下,采取在線或離線裝取樣品,并在經(jīng)過紅外光譜儀器分析測量以后,再安全地將樣品排除出去。特制的氣體取樣裝置,帶流量控制的氣體池,四氯化硅分析測試系統(tǒng)等。

 

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